A technológiával gyorsan és olcsón készülhetnek áramkörök, de optoelektronikai és orvosdiagnosztikai alkalmazása is biztató. A ma alkalmazott mikro- és nanoméretű gyártási eszközök, amelyeket a miniatűr mintázatok előállítására használnak költségesek és kevéssé termelékenyek. Chad A. Mirkin vezetésével az amerikai kutatók ezen kívántak változtatni a fotolitográfiának nevezett új technikával.
Az Illinois állambeli Északnyugati Egyetem (Northwestern University) kutatói a 15 000 miniatűr fénytollal egyidejűleg 15 ezer azonos másolatot készítettek Chicago város sziluettjéről pár négyzetcentiméter fényérzékeny felületen, mindezt „csupán" fél óra alatt.
Amennyiben a hagyományos elektronsugaras litográfiával próbálkoznánk, úgy egyszerre csak igen kis számú miniatűr mintázat készülhetne.
A már kész városképek 182 pontot tartalmaznak, amelyek egyenként 500 nanométer (fél mikrométer) átmérőjűek, ami azt jelenti, hogy éppen akkorák, mint a fénytoll hegye. Az egyes pontok megvilágítási ideje 20 másodperc volt. A későbbiekben a mostani 150 nanométer helyett 100 nanométer alá kívánják vinni a legjobb felbontást, vagyis a tollhegy méretét.
A tollak maguk gúla alakúak, hegyük a piramis csúcsa. A piramis oldalait nagyon vékony aranyréteggel vonták be, a hegyükről pedig egy igen kicsiny mennyiségű aranyat eltávolítottak. A gúla alapja felől világították meg a tollakat, az arannyal bevont oldalak csatornaként irányítják a fényt a csúcs irányában. Az aranytól mentes csúcson azután a fény kilép, és eléri a fényérzékeny anyagból lévő felszínt. Így nyomtathatnak könnyen nagy pontosságú mintákat az eljárás segítségével.